德国弗劳恩霍夫应用研究促进协会北京代表处
用于半导体生产的不含 PFAS 的聚合物膜
© Fraunhofer IAP/Till Budde
不含 PFAS 的新型高科技膜可过滤掉最小的颗粒杂质,从而实现下一代半导体的生产。

有害和破坏环境的化学物质 PFAS 是全氟和多氟烷基物质的简称,由于其稳定性和耐水性以及耐油脂性,被广泛应用于许多行业。例如,在半导体生产过程中,含有 PFAS 的薄膜被用于许多工艺步骤中。弗劳恩霍夫应用聚合物研究所 IAP 的研究人员现已开发出一种新型不含 PFAS 的可持续替代膜。这种化学性质稳定的高渗透性聚合物膜的孔径约为 7 纳米,可以过滤最小颗粒的杂质。这种膜可以定制,因此新工艺可以很容易地集成到现有系统中。

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